Nanopatterning of silicon surfaces by low-energy ion-beam sputtering: Dependence on the angle of ion incidence

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Revista:
Nanotechnology

ISSN: 0957-4484

Año de publicación: 2002

Volumen: 13

Número: 3

Páginas: 304-308

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1088/0957-4484/13/3/313 GOOGLE SCHOLAR
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