Recubrimientos depositados por cvd-fbr para protección a alta temperatura

  1. José Luddey Marulanda Arévalo 1
  2. Saúl Isaac Castañeda Quintana 2
  3. Aduljay Remolina Millán 3
  1. 1 Universidad Tecnológica de Pereira
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    Universidad Tecnológica de Pereira

    Pereira, Colombia

    ROR https://ror.org/01d981710

  2. 2 Universidad Complutense de Madrid
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    Universidad Complutense de Madrid

    Madrid, España

    ROR 02p0gd045

  3. 3 Universidad Pontificia Bolivariana-Seccional Bucaramanga
Revista:
DYNA: revista de la Facultad de Minas. Universidad Nacional de Colombia. Sede Medellín

ISSN: 0012-7353

Año de publicación: 2013

Volumen: 80

Número: 181

Páginas: 181-191

Tipo: Artículo

Otras publicaciones en: DYNA: revista de la Facultad de Minas. Universidad Nacional de Colombia. Sede Medellín

Resumen

La deposición química de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la técnica de deposición química de vapor; que combina las ventajas de la activación térmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la necesidad de proteger superficialmente los componentes que operan a altas temperaturas, el cual ha aumentado perceptiblemente. Además, tiene la ventaja de ser una técnica de bajo costo, puede controlar con relativa facilidad la composición del material depositado, permitiendo realizar recubrimientos con una orientación preferente que permite la obtención de intercaras con propiedades anisotrópicas; estos son depositados a bajas temperaturas y a la presión atmosférica