CVD in a fluidized bed reactor: A method of developing coatings at temperatures below 600°C

  1. Sânchez, L.
  2. Bolívar, F.J.
  3. Del Pilar Hierro, M.
  4. Trilleros, J.A.
  5. Pérez, F.J.
Aldizkaria:
Chemical Vapor Deposition

ISSN: 0948-1907,  1521-3862

Argitalpen urtea: 2007

Alea: 13

Zenbakia: 9

Orrialdeak: 465-473

Mota: Artikulua

DOI: 10.1002/CVDE.200606560 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus