Compositional gradients at the nanoscale in substoichiometric thin films deposited by magnetron sputtering at oblique angles: A case study on SiOx thin films

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Revista:
Plasma Processes and Polymers

ISSN: 1612-8869 1612-8850

Año de publicación: 2022

Volumen: 19

Número: 1

Tipo: Artículo

DOI: 10.1002/PPAP.202100116 GOOGLE SCHOLAR