Photoassisted immersion deposition of cu clusters onto porous silicon: A Langmuir-Hill Ligand-locus model applied to the growth kinetics

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Revista:
Journal of Physical Chemistry C

ISSN: 1932-7455,  1932-7447

Año de publicación: 2014

Volumen: 118

Número: 27

Páginas: 14905-14912

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/JP502108B GOOGLE SCHOLAR
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