A comparative study of the electrical properties of TiO<sub>2</sub>films grown by high-pressure reactive sputtering and atomic layer deposition
- Dueñas, S
- Castán, H
- García, H
-
San Andrés Serrano, Enrique
1
- Toledano-Luque, M
- Mártil de la Plaza, Ignacio 1
-
González-Díaz, Germán
1
- Kukli, K
- Uustare, T
- Aarik, J
-
1
Universidad Complutense de Madrid
info
ISSN: 0268-1242, 1361-6641
Ano de publicación: 2005
Volume: 20
Número: 10
Páxinas: 1044-1051
Tipo: Artigo
Outras publicacións en: Semiconductor Science and Technology
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