Effect of oxygen partial pressure on the NTCR characteristics of sputtered NixMn3-xO4+δ thin films

  1. Basu, A.
  2. Brinkman, A.W.
  3. Schmidt, R.
Aldizkaria:
Journal of the European Ceramic Society

ISSN: 0955-2219

Argitalpen urtea: 2004

Alea: 24

Zenbakia: 6

Orrialdeak: 1247-1250

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/S0955-2219(03)00380-7 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus