High-pressure sputtering deposition and in situ plasma oxidation of TiOx thin films as electron selective contact for photovoltaic applications

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Revista:
Materials Science in Semiconductor Processing

ISSN: 1369-8001

Año de publicación: 2025

Volumen: 186

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.MSSP.2024.109038 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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