Crecimiento y caracterizacion de GaAs sobre Si por epitaxia de haces moleculares
- González Díez, María Yolanda
- Luisa González Sotos Zuzendaria
Defentsa unibertsitatea: Universidad Complutense de Madrid
Defentsa urtea: 1991
- Francisco Javier Piqueras de Noriega Presidentea
- Claudio Aroca Hernández-Ros Idazkaria
- José Luis Castaño Palazón Kidea
- Dolores Gomayo Fernandez Kidea
- Federico Soria Gallego Kidea
Mota: Tesia
Laburpena
En este trabajo de tesis se estudian y aportan soluciones a los problemas intrínsecamente ligados al sistema epitaxial GaAs sobre sí. Se ha estudiado el proceso de nucleación, la distribución de tensiones que aparece debido a la diferencia de parámetros de red y de coeficiente de expansión térmica que existe entre estos materiales, el proceso de aniquilación de dominios de antifase que aparecen por el hecho de crecer un material polar sobre uno no polar y se han realizado crecimientos a baja temperatura sobre substratos de sí también tratados a baja temperatura.