Ultrasensitive non-chemically amplified low-contrast negative electron beam lithography resist with dual-tone behaviour

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Revista:
Journal of Materials Chemistry C

ISSN: 2050-7526,  2050-7534

Año de publicación: 2013

Volumen: 1

Número: 7

Páginas: 1392-1398

Tipo: Artículo

DOI: 10.1039/C2TC00148A GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: Scopus