Reactive deposition of device quality conformal copper films from supercritical CO2
- Blackburn, J.M.
- Cabanas, A.
- Zong, Y.
- Quinn, J.D.
- Watkins, J.J.
Actas:
Advanced Metallization Conference (AMC)
ISSN: 1048-0854
Año de publicación: 2001
Páginas: 177-183
Tipo: Aportación congreso