Oxygen to silicon ratio determination of SiOxHy thin films

  1. Andrés, E.S.
  2. Del Prado, A.
  3. Mártil, I.
  4. González-Díaz, G.
  5. Bohne, W.
  6. Röhrich, J.
  7. Selle, B.
  8. Sieber, I.
  9. Fernández, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2005

Volumen: 492

Número: 1-2

Páginas: 232-235

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.TSF.2005.06.049 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
Fuente de los datos: Scopus