High pressure sputtering as a viable technique for future high permittivity dielectric on III-V integration: GdOx on InP demonstration
- Pampillón, M.A.
- Cañadilla, C.
- Feijoo, P.C.
- San Andrés, E.
- Del Prado, A.
ISSN: 2166-2754, 2166-2746
Año de publicación: 2013
Volumen: 31
Número: 1
Tipo: Artículo