Anomalous thermal oxidation of gadolinium thin films deposited on silicon by high pressure sputtering

  1. Pampillón, M.A.
  2. Feijoo, P.C.
  3. San Andrés, E.
  4. Lucía, M.L.
  5. Del Prado, A.
  6. Toledano-Luque, M.
Revista:
Microelectronic Engineering

ISSN: 0167-9317

Año de publicación: 2011

Volumen: 88

Número: 9

Páginas: 2991-2996

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.MEE.2011.04.058 GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: Scopus