Electrical characterization of MIS capacitors fabricated from ECR-PECVD silicon oxide and silicon nitride bilayer films

  1. Castán, H.
  2. Dueñas, S.
  3. Barbolla, J.
  4. San Andrés, E.
  5. Del Prado, A.
  6. Mártil, I.
  7. González-Díaz, G.
Revista:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Any de publicació: 2003

Volum: 14

Número: 5-7

Pàgines: 287-290

Tipus: Article

DOI: 10.1023/A:1023907508286 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus