Electrical characterization of MIS capacitors fabricated from ECR-PECVD silicon oxide and silicon nitride bilayer films

  1. Castán, H.
  2. Dueñas, S.
  3. Barbolla, J.
  4. San Andrés, E.
  5. Del Prado, A.
  6. Mártil, I.
  7. González-Díaz, G.
Aldizkaria:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Argitalpen urtea: 2003

Alea: 14

Zenbakia: 5-7

Orrialdeak: 287-290

Mota: Artikulua

DOI: 10.1023/A:1023907508286 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus