Interface quality of high-pressure reactive sputtered and atomic layer deposited titanium oxide thin films on silicon

  1. Dueñas, S.
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Actas:
2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9780780388109

Año de publicación: 2005

Volumen: 2005

Páginas: 49-52

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/SCED.2005.1504303 GOOGLE SCHOLAR
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