Influence of rapid thermal annealing processes on the properties of SiNx:H films deposited by the electron cyclotron resonance method

  1. Martínez, F.L.
  2. Mártil, I.
  3. González-Díaz, G.
  4. Selle, B.
  5. Sieber, I.
Zeitschrift:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Datum der Publikation: 1998

Ausgabe: 227-230

Nummer: PART 1

Seiten: 523-527

Art: Artikel

DOI: 10.1016/S0022-3093(98)00092-1 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus