Electrical properties of R.F.-sputtered SiO2 films

  1. Santamaría, J.
  2. Sánchez Quesada, F.
  3. Gonzalez Díaz, G.
  4. Iborra, E.
  5. Rodriguez Vidal, M.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 1985

Ausgabe: 125

Nummer: 3-4

Seiten: 299-303

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0040-6090(85)90236-6 GOOGLE SCHOLAR
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