Influence of the target and working gas on the composition of silicon nitride thin films prepared by reactive RF-sputtering
- Vila, M.
- Prieto, C.
- García-López, J.
- Respaldiza, M.A.
ISSN: 0168-583X
Datum der Publikation: 2003
Ausgabe: 211
Nummer: 2
Seiten: 199-205
Art: Artikel