Effect of oxygen partial pressure on the NTCR characteristics of sputtered NixMn3-xO4+δ thin films

  1. Basu, A.
  2. Brinkman, A.W.
  3. Schmidt, R.
Revista:
Journal of the European Ceramic Society

ISSN: 0955-2219

Año de publicación: 2004

Volumen: 24

Número: 6

Páginas: 1247-1250

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0955-2219(03)00380-7 GOOGLE SCHOLAR
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