Patterning of ALD HfO2 layers on silicon

  1. Andreu, R.
  2. Sánchez, J.
  3. Sánchez, A.
  4. Zabala, M.
  5. Acero, M.C.
  6. Rafi, J.M.
  7. Campabadal, F.
Actes:
ECS Transactions

ISSN: 1938-5862,  1938-6737

ISBN: 9781566777414

Any de publicació: 2009

Volum: 25

Número: 4

Pàgines: 309-314

Tipus: Aportació congrés

GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus