Patterning of ALD HfO2 layers on silicon

  1. Andreu, R.
  2. Sánchez, J.
  3. Sánchez, A.
  4. Zabala, M.
  5. Acero, M.C.
  6. Rafi, J.M.
  7. Campabadal, F.
Actes de conférence:
ECS Transactions

ISSN: 1938-5862 1938-6737

ISBN: 9781566777414

Année de publication: 2009

Volumen: 25

Número: 4

Pages: 309-314

Type: Communication dans un congrès