Electrical characterization of high-pressure reactive sputtered ScO x films on silicon

  1. Castán, H.
  2. Dueñas, S.
  3. Gómez, A.
  4. García, H.
  5. Bailón, L.
  6. Feijoo, P.C.
  7. Toledano-Luque, M.
  8. Del Prado, A.
  9. San Andrés, E.
  10. Lucía, M.L.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Any de publicació: 2011

Volum: 519

Número: 7

Pàgines: 2268-2272

Tipus: Article

DOI: 10.1016/J.TSF.2010.10.073 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible

Font de les dades: Scopus