Influence of H on the composition and atomic concentrations of "N-rich" plasma deposited SiOxNyHz films

  1. Del Prado, A.
  2. Andrés, E.S.
  3. Mártil, I.
  4. González-Díaz, G.
  5. Bohne, W.
  6. Röhrich, J.
  7. Selle, B.
Zeitschrift:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Datum der Publikation: 2004

Ausgabe: 95

Nummer: 10

Seiten: 5373-5382

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.1699525 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor
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