Influence of H on the composition and atomic concentrations of "N-rich" plasma deposited SiOxNyHz films

  1. Del Prado, A.
  2. Andrés, E.S.
  3. Mártil, I.
  4. González-Díaz, G.
  5. Bohne, W.
  6. Röhrich, J.
  7. Selle, B.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Ano de publicación: 2004

Volume: 95

Número: 10

Páxinas: 5373-5382

Tipo: Artigo

DOI: 10.1063/1.1699525 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor
Fonte de datos: Scopus