Electrical characterization of MIS capacitors fabricated from ECR-PECVD silicon oxide and silicon nitride bilayer films

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Revista:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Año de publicación: 2003

Volumen: 14

Número: 5-7

Páginas: 287-290

Tipo: Artículo

DOI: 10.1023/A:1023907508286 GOOGLE SCHOLAR
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