High-quality Si-implanted In0.53Ga0.47As epitaxial layers and their application to n+ p junction devices

  1. Blanco, M.N.
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  3. Calle, F.
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  5. González-Díaz, G.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 2000

Volumen: 87

Número: 7

Páginas: 3478-3482

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.372369 GOOGLE SCHOLAR