Influence of the sputtering gas pressure on deposition profiles

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Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

ISSN: 1520-8559,  0734-2101

Año de publicación: 1983

Volumen: 1

Número: 3

Páginas: 1394-1397

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.572028 GOOGLE SCHOLAR
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