Depth profile study of Ti implanted Si at very high doses
- Olea, J.
- Pastor, D.
- Toledano-Luque, M.
- Mártil, I.
- Gonzlez-Daz, G.
Revista:
Journal of Applied Physics
ISSN: 0021-8979
Año de publicación: 2011
Volumen: 110
Número: 6
Tipo: Artículo