Influence of the target and working gas on the composition of silicon nitride thin films prepared by reactive RF-sputtering

  1. Vila, M.
  2. Prieto, C.
  3. García-López, J.
  4. Respaldiza, M.A.
Revista:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

ISSN: 0168-583X

Año de publicación: 2003

Volumen: 211

Número: 2

Páginas: 199-205

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0168-583X(03)01211-4 GOOGLE SCHOLAR
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