Patterning of ALD HfO2 layers on silicon

  1. Andreu, R.
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  7. Campabadal, F.
Actas:
ECS Transactions

ISSN: 1938-5862,  1938-6737

ISBN: 9781566777414

Año de publicación: 2009

Volumen: 25

Número: 4

Páginas: 309-314

Tipo: Aportación congreso

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