Lattice order in thulium-doped GaN epilayers: In situ doping versus ion implantation

  1. Hernández, S.
  2. Cuscó, R.
  3. Artús, L.
  4. Nogales, E.
  5. Martin, R.W.
  6. O'Donnell, K.P.
  7. Halambalakis, G.
  8. Briot, O.
  9. Lorenz, K.
  10. Alves, E.
Revista:
Optical Materials

ISSN: 0925-3467

Ano de publicación: 2006

Volume: 28

Número: 6-7

Páxinas: 771-774

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1016/J.OPTMAT.2005.09.021 GOOGLE SCHOLAR