Lattice order in thulium-doped GaN epilayers: In situ doping versus ion implantation

  1. Hernández, S.
  2. Cuscó, R.
  3. Artús, L.
  4. Nogales, E.
  5. Martin, R.W.
  6. O'Donnell, K.P.
  7. Halambalakis, G.
  8. Briot, O.
  9. Lorenz, K.
  10. Alves, E.
Revista:
Optical Materials

ISSN: 0925-3467

Año de publicación: 2006

Volumen: 28

Número: 6-7

Páginas: 771-774

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.OPTMAT.2005.09.021 GOOGLE SCHOLAR