Compositional analysis of thin SiO xN y:H films by heavy-ion ERDA, standard RBS, EDX and AES: A comparison

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Revista:
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ISSN: 0168-583X

Año de publicación: 2004

Volumen: 217

Número: 2

Páginas: 237-245

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.NIMB.2003.11.003 GOOGLE SCHOLAR

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