Compositional analysis of SiOxNy:H films by heavy-ion ERDA: The problem of radiation damage

  1. Bohne, W.
  2. Fuhs, W.
  3. Röhrich, J.
  4. Selle, B.
  5. Sieber, I.
  6. Del Prado, A.
  7. San Andrés, E.
  8. Mártil, I.
  9. González-Díaz, G.
Revista:
Surface and Interface Analysis

ISSN: 0142-2421

Any de publicació: 2002

Volum: 34

Número: 1

Pàgines: 749-753

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1002/SIA.1403 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus