Compositional analysis of SiOxNy:H films by heavy-ion ERDA: The problem of radiation damage

  1. Bohne, W.
  2. Fuhs, W.
  3. Röhrich, J.
  4. Selle, B.
  5. Sieber, I.
  6. Del Prado, A.
  7. San Andrés, E.
  8. Mártil, I.
  9. González-Díaz, G.
Revista:
Surface and Interface Analysis

ISSN: 0142-2421

Ano de publicación: 2002

Volume: 34

Número: 1

Páxinas: 749-753

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1002/SIA.1403 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus