Compositional analysis of SiOxNy:H films by heavy-ion ERDA: The problem of radiation damage

  1. Bohne, W.
  2. Fuhs, W.
  3. Röhrich, J.
  4. Selle, B.
  5. Sieber, I.
  6. Del Prado, A.
  7. San Andrés, E.
  8. Mártil, I.
  9. González-Díaz, G.
Revista:
Surface and Interface Analysis

ISSN: 0142-2421

Año de publicación: 2002

Volumen: 34

Número: 1

Páginas: 749-753

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1002/SIA.1403 GOOGLE SCHOLAR
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